现代科技的飞速进步的同时,显示器作为一个媒体传播的窗口,普遍广泛应用在各个行业中,稳定的保证现有的显示质量和未来显示质量的提升至关重要,对应的就是生产显示器原材料的质量,而钨、钼靶材溅射镀膜在显示器上的重要环节,原材料的纯度,密度,内部组织的致密性是关键因素,格美金属在钨、钼溅射靶材的材料控制上具有较高水平,可以保证溅射靶的各种特性均满足现代生产高水平的显示器要求。
溅射技术是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
溅射镀膜作为真空镀膜的三种工艺之一,广泛应用于光伏、TFT-LCD等现代工业。溅射靶材对纯度有较高的要求,一般钨钼溅射靶材要求纯度达到99.95%以上,并且具有良好的密度和耐腐蚀性。
我们的优势
项目 | Power密度(W/cm2) | 基板温度(℃) | 成膜Rate(A·m/min) | 比电阻@2000A(μΩcm) |
格美钼靶 | 5.0 | 100.0 | 342.8 | 11.7 |
我们的产品
加工范围 | 厚度/直径(mm) | 宽度(mm) | 长度(mm) | 粗糙度(mm) |
G4.5~11.5代靶材 | 1.5~40 | 1.0~2500.00 | 1.0~4000.00 | Ra0.2~6.4 |
钼管靶 | 120~170 | / | 3500 | Ra0.2~6.4 |
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